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PVD: 用物理方法(如蒸发、溅射等),使镀膜材料汽化在基体表面,沉积成覆盖层的方法。 CVD: 用化学方法使气体在基体材料表面发生化学反应并形成覆盖层的方法。 区别: 化学气相沉积(Chemical Vapor
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CVD技术是化学气相沉积Chemical Vapor Deposition的缩写。化学气相沉积乃是通过化学反应的方式,利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的
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硬质涂层按化学成分大致分类如下:1.金属氮化物汰层。过渡族金属Ti、Cr、V、Tn、Nb、Zr、Hf等易与氮原子结合生成金属氮化物,这些氮化物都具有熔点高、硬度大、韧性适当、化学稳定性好等特点。在氮化物涂层中有二元氮化物如TiN、二元
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(iCVD)的过程中,加热的导线(粉红色的圆柱体)导致 "启动剂 "分子(红色)分裂,然后它们与用于涂层的单体(紫色)相互作用,使它们聚集在下面较冷的表面上,在那里它们反应形成聚合物链,因为它们建立了一个均匀的涂层(右下)。 今天,CVD是
2023-05-04
来源: cnBeta.COM
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、铝材镀锆/钛、哈式合金镀层厚度测定3. 装饰材料:装饰涂层分析4. 电子电器:PCB印刷电路板,金手指及连接器上Au/Ni/Cu、Au/Pd/Ni/Cu厚度分析、可焊性能分析如Ag/Cu/Epoxy,RoHS指令合规检查5.
2022-04-22
来源: 德国斯派克分析仪器公司
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厚测试仪、金镍厚测试仪、电镀膜厚仪等。功能:精密测量金属电镀层的厚度。应用范围:测量镀层,涂层,薄膜,液体的厚度或组成,测量范围从22(Ti)到92(U)。
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电子束蒸发是一种物理气相沉积 (PVD)技术,它在真空下利用电子束直接加热蒸发材料(通常是颗粒),并将蒸发的材料输送到基板上形成一个薄膜.电子束蒸镀可以镀出高纯度、高精度的薄膜.电子束蒸发应用电子束蒸发因其高沉积速率和高材料利用效率而被
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其含义c是气3相中3化1学反5应的固体产物沉积到表面。CVD装置由下k列部件组成;反7应物供应系统,气3相反7应器,气4流传送系统。反6应物多为0金属氯化8物,先被加热到一g定温度,达到足够高的蒸汽压,用载气5(一s般为6Ar或H3)送入
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领域一直处于主导地位.根据客户实际需要, 成功和国际,国内知名镀膜涂层设备制造商长期合作.上海伯东 PVD 镀膜设备客户案例一: 某知名真空技术公司汽车活塞环镀膜机, 硬质涂层每个系统配置2台涡轮分子泵 HiPace 2300上海伯东
2022-06-24
来源: 伯东贸易(深圳)有限公司
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厚测试仪、金镍厚测试仪、电镀膜厚仪等。功能:精密测量金属电镀层的厚度。应用范围:测量镀层,涂层,薄膜,液体的厚度或组成,测量范围从22(Ti)到92(U)。物质受原级X射线或其他光子源照射,受激产生次级X射线的现象。它只包含特征X射线,没有连续X射线。分别以原级、一级、二级X射线激发,可产生一级、二级、三级X射线荧光。